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高精度光掩膜基版

采用当前世界最先进生产、检测设备以及工艺技术,结合公司独创技术,建成能够生产75×75mm至700×800mm各种规格的溅射匀胶铬版生产线,产品广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等多种产业的光掩膜制作

 
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